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11月10日

必须国产化!和光刻胶一样重要却未被挖掘的重大机会

作者 : admin | 分类 : 焦点新闻 | 超过 11 人围观 | 已有 0 人发表了看法
原标题:必须国产化!和光刻胶一样重要却未被挖掘的重大机会

必须国产化!和光刻胶一样重要却未被挖掘的重大机会

光刻胶的上涨已给市场一个非常清晰的脉络,很多股票涨幅已经多波炒作,现在去关注光刻胶,不如选择一个更具潜力的机会——光掩膜。

光掩膜,很多人可能没听说过,但是光掩膜确实是非常重要,而且是国产代替中必须代替的部分。

所谓光掩膜是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,其原材料主要为基板(合成石英),成本占比达到90%,主要依赖进口,由国外垄断。

光掩膜主要由两部分组成,基板和不透光材料,光掩膜是半导体集成电路、显示屏制造中图形底片转移用的高精密工具。

光掩膜,光刻胶,大硅片三者都是芯片产业的上游,也是半导体产品材料段端三个最主要的成本项,其中光掩膜是生产制造过程中的核心模具,起到光刻机与大硅片的桥梁和纽带的作用,芯片刻制部分的高低,和光掩膜直接发生关联。

光掩膜从应用领域划分,主要应用于集成电路、显示面板、触摸屏、电路板等。其中集成电路应用占比达到60%,显示面板领域占比达到23%。

从产业链上来看,行业集中度较高,半导体领域,高端的芯片制造厂商大多自产自足,显示面板领域,我们仅能生产中低端的光掩膜,高端的依旧依赖于进口。光掩膜制造技术壁垒高,国内自给率低,制造主要集中在少数企业和部分科研所。

光掩膜一共有四种,最为常见的就是铬版(苏打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃),在透光的玻璃基板上涂上了一层不透光的金属铬。而这三种玻璃基板使用最广泛的当属石英玻璃,其次是苏打玻璃。

02 光掩膜产业链

光掩膜行业的产业链分为上游的图形设计、光掩膜设备和材料行业,中游的光掩膜制造和下游的微电子运用。光掩膜制造商分为两种类型,将光掩膜卖给其他公司的独立商业制造商,如清溢光电等;自产自用的专属制造商,如台积电等。

目前全球范围内光掩膜主要以专业生产商为主,而光掩膜生产商主要采用采购光掩膜基材的方式,少数厂商具备上游基材生产能力

作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形底片的高精密工具,光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。

通过上中有制造后,最终光掩膜板被半导体厂商(英特尔、三星、台积电等)以及显示屏厂商(京东方、华星光电等)使用。

根据摩尔定律:集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔18-24个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。集成电路性能与半导体制程紧密联系,技术升级必将带来光掩膜市场增量。

国内掩膜版供需缺口扩大。2018年国内掩膜版需求7.09万平方米,国内掩膜版产量1.97万平方米,净进口量5.12万平方米,2019年国内掩膜版需求9.98万平方米,产量2.69万平方米,供需缺口达6.29万平方米。

国内平板显示行业处于快速发展期,每一代新的半导体、显示屏产品均需要新的配套光掩膜板,更加高频的半导体(移动互联网、物联网)、显示屏(显示技术革新、大屏化)新品推出。

2020年以后EUV光掩膜还将出现继续增长的趋势。继最先导入了EUV的N7+代之后,台积电计划在2020年开始量产N5。有10层以上的EUV层。

同样,三星电子也完成了华城地区的EUV专用产线V1的建设,且把5nm定位为反攻的主要手段,因此未来EUV光刻的消费将会迎来巨大的增长,光掩膜随之增大。

市场空间大,2020技术革新,国产代替,光掩膜会成为第二个光刻胶,未来有足够空间,我们需要先人一步,做好光掩膜的布局。(作者:红方印168)

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