收藏本站 | RSS订阅纳米科技-纳米资讯-纳米新闻
你现在的位置:首页 » 焦点新闻 » 正文
10月19日

ASML新一代光刻机预计明年出货 生产效率提升18%

作者 : admin | 分类 : 焦点新闻 | 超过 8 人围观 | 已有 0 人发表了看法
原标题:ASML新一代光刻机预计明年出货 生产效率提升18%

极紫外光刻机是7nm和5nm芯片制程工艺所必不可少的设备,目前全球只有来自荷兰的光刻机巨头ASML能供应。

ASML新一代光刻机预计明年出货 生产效率提升18%

日前,在三季度财报中,ASML透露其全新的极紫外光刻机将在明年年中开始出货,型号为TWINSCAN NXE:3600D。

据悉,新一代极紫外光刻机的生产效率将提升18%,在30mJ/cm2的曝光速度下每小时可处理160片晶圆。

ASML新一代光刻机预计明年出货 生产效率提升18%

目前台积电、三星这两大芯片代工商的制程工艺都已提升到7nm和5nm,他们所需要的极紫外光刻机也全部来自于ASML。

值得一提的是,据财报显示,ASML三季度的净利润高达10.62亿欧元,上一季度为7.51亿欧元,增加3.11亿欧元。

上一篇:5nm海思麒麟9000处理器绝版 下一篇:晶圆产能紧缺,全球103家晶圆厂情况汇总!
640*60广告位

额 本文暂时没人评论 来添加一个吧

发表评论

必填

选填

选填

◎欢迎参与讨论,请在这里发表您的看法、交流您的观点。

欢迎访问纳米科技资讯网~
«   2020年10月   »
1234
567891011
12131415161718
19202122232425
262728293031
搜索
网站分类
最近发表
标签列表